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伯東公司 KRI 考夫曼霍爾離子源光學蒸鍍鍍膜機應用
常見蒸鍍機台與對應 KRI 霍爾離子源型號：
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蒸鍍機台尺寸
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KRI 離子源
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~1100mm
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eH1010
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1100~1400mm
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eH1010, eH1020
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1400~1900mm
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eH1020, eH3000
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KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動化控制及連線自動化設計，提供使用者在操作上更是便利。
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KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模組化之設計、提供使用者在於基本保養中能夠降低成本及便利性。
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伯東公司客戶 1400 mm 蒸鍍鍍膜機安裝 KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F，應用於塑膠光學鍍膜。
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KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數:
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Filament Controller
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Discharge controller
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Gas controller
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17.2A/ 22V
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150V/ 4.85A
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Ar/ 32sccm
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利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無離子源輔助鍍膜對鍍膜品質之比較：
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KRI EH1020 輔助鍍膜
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無 Ion Source 輔助鍍膜
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鹽水煮沸脫膜測試
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優
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劣
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破壞性百格脫膜測試
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優
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劣
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光學折射設率
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高
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低
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膜層緻密性
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優
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劣
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膜層光學吸收率
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無
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有
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制程腔體加熱溫度
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低
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高
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生產成本
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低
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高
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KRI 考夫曼霍爾離子源系列主要型號包含：
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離子源 eH200
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離子源 eH400
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離子源 eH1010
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離子源 eH1020
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離子源 eH3000
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Cathode
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Filament or Hollow cathode
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Filament or Hollow cathode
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Filament or Hollow cathode
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Filament or Hollow cathode
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Hollow cathode
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Water Cooled Anode
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no
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no
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no
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yes
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no
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Discharge Currentmax
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2 A
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3.5 (7) A
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10 (7) A
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10 (20) A
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20 (10) A
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Discharge Voltagemax
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300 V
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300 (150) V
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300 (150 ) V
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300 (150) V
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250 (300) V
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Discharge Voltagemin
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40* V
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40* V
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40* V
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40* V
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40* V
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Divergence (hmhw)
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45°
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45°
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45°
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45°
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45°
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Height (nominal)
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2.0”
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3.0”
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4.0”
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4.0”
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6.0”
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Diameter (nominal)
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2.5”
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3.7”
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5.7”
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5.7”
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9.7”
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伯東公司主要經營產品德國 Pfeiffer渦輪分子泵, 幹式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI Kaufman 考夫曼離子源（離子槍）
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