離子蝕刻機 20 IBE-J
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離子蝕刻機 20 IBE-J

NS 離子蝕刻機 20 IBE-J

伯東公司日本原裝進口適合大規模量產使用的離子刻蝕機

离子蚀刻Φ4 inch X 12片

基片尺寸

Φ4 inch X 12片
φ5 inch X 10片
φ6 inch X 8片

樣品台

直接冷卻,水冷

離子源

Φ20cm 考夫曼離子源

伯東 NS 離子蝕刻機主要優點:
1. 乾式制程的微細加工裝置, 使得在薄膜磁頭, 半導體元件, MR sensor 等領域的開發研究及量產得以廣泛應用.
2. 物理蝕刻的特性, 無論使用什麼材料都可以用來加工, 所以各種領域都可以被廣泛應用.
3. 配置使用美國考夫曼離子源
4. 射頻角度可以任意調整, 蝕刻可以根據需要做垂直, 斜面等等加工形狀.
5. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上, 所以可以在低溫環境下蝕刻.
6. 配置公轉自轉傳輸機構, 使得被蝕刻物可以得到比較均勻平滑的表面.
7. 機台設計使用自動化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生產過程.

NS 離子蝕刻機 20IBE-J 視頻:



NS 離子蝕刻機通氬氣 Ar 不同材料的蝕刻速率:
NS离子蚀刻机
Hakuto NS 日本原裝設計製造離子刻蝕機, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對黃金 AU, 鉑 PT, 合金等金屬及半導體材料也能提供蝕刻. 適用於 MR 薄膜磁頭, 自旋電子學, 應力感測器, 射頻濾波器, 超導體, 複合半導體材料的刻蝕. NS 蝕刻機可選配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!

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上海伯東: 葉小姐                                   臺灣伯東: 王小姐 

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