考夫曼離子源電源與控制器

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
KRI 考夫曼離子源
            霍爾離子源                               射頻離子源                        考夫曼離子源                                   自動控制器  

KRI 考夫曼離子源自動控制器 Power Supply and Control

考夫曼離子源 Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器有多個模組組成, 模組的特性取決於功率, 頻率, 電壓, 電流和控制方式.

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