考夫曼霍爾型離子源手機殼顏色鍍膜和3D玻璃鍍膜
伯東公司美國 KRI 考夫曼霍爾型離子源 EH 5500 成功應用於手機殼顏色鍍膜和3D玻璃鍍膜, 湖南某知名手機鍍膜製造商經過我司推薦採用大尺寸考夫曼離子源 EH 5500 安裝於生產設備 2050 mm 蒸鍍機中, 實現 LED-DBR 離子輔助鍍膜.
考夫曼離子源客戶案例: 國內某知名手機鍍膜製造商
1. 離子源應用: 手機殼顏色鍍膜, 3D 玻璃鍍膜生產.
2. 系統功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 採用美國考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業界最高等級, 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設計所產生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分佈可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機中大範圍的載具 (substrate holder), 無論是生產良率或是均勻性都可達到最高生產效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能後, 所生產出的手機殼顏色鍍膜及 3D 玻璃鍍膜無論是環境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優於目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.
伯東公司美國 KRI 霍爾離子源 EH 5500 優點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
氣體分子離子轉化率高, 離子束工作穩定
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
模組化設計, 保養快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學膜後折射率
全自動控制設計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易
EH 5500 離子源本體
EH 5500 離子源控制器
伯東公司是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應用於離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高緻密, 高品質之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
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