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電子束鍍膜機加裝霍爾離子源
伯東公司客戶某生產光學鏡片公司採購美國 KRI 考夫曼公司大尺寸霍爾離子源 EH 2000 加裝於電子束鍍膜機用於望遠鏡用金屬零部件 IBAD 輔助鍍膜!

伯東公司電子束鍍膜機加裝離子源典型案例: 根據客戶 Φ1.2m 鍍膜腔體尺寸, 基材尺寸和工藝條件, 推薦選用霍爾離子源 eh2000 HC, 配置中空陰極, 中和器, 自動控制器
1. 設備: Φ1.2m 電子束鍍膜機.
2. 基材:望遠鏡用零部件, 鍍鋁 Al, 最外層鍍一層二氧化矽 SiO2, 做為保護膜
3. 加裝霍爾離子源: eh2000HC, 通氧氣
3. 離子源條件: Vb:120V ( 離子束陽極電壓 ), Ib:14A ( 離子束陽極電流 ), O2 gas:45sccm( 氧氣 ).
4. 離子源應用: 望遠鏡用零部件鍍金屬膜

腔體內中的霍爾離子源 eh2000HC                                   通氧氣 O2               霍爾離子源 eh2000HC 自動控制器

美國 KRI 霍爾離子源 eh2000HC 主要技術規格 尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 4” 放電電壓 / 電流: 50-250V / 15A 可通氣體: Ar, O2, N2,H2 離子束髮散角度：> 45° (hwhm) 水冷

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域,伯東公司是美國考夫曼離子源中國總代理.

 

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