KRI 霍爾離子源典型應用 PC 預清潔後,IBAD 輔助鍍膜
霍爾離子源應用於光學鍍膜機加裝, 實現預清潔 PC, 輔助鍍膜 IBAD
光學鍍膜 optics coating, 在現代生產被廣泛應用, 例如玻璃鍍膜, 鏡片鍍膜, 顯微鏡鏡片鍍膜, 裝飾燈罩鍍膜都是必不可少的生產工藝. 蒸發鍍膜作為一種常見的制程, 比較容易出現膜層不均勻, 或是產品膜層脫落的現象, 使用美國 KRI考夫曼離子源可以有效解決此類問題, 因此美國 KRI 考夫曼霍爾型離子源廣泛加裝在各類蒸發鍍膜機中
離子源輔助鍍膜客戶案例一: 廈門某光學鍍膜企業, 該企業使用日本 Shincron 真空鍍膜機, 鍍膜腔體約 2 m3 , 鍍膜機加裝霍爾離子源 EH 4200 起到預清潔 PC及輔助鍍膜 IBAD 的作用.
離子源輔助鍍膜具體操作, 霍爾離子源預清潔 PC +輔助鍍膜 IBAD : 由於膜層表面很光滑,在鍍膜時會產生膜層脫落現象, 預清潔就是將膜層表面用大的離子如 Ar 打擊表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加裝KRI霍爾離子源起到預清潔作用, 在預清潔後開啟離子源輔助鍍膜 IBAD, 膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高。
工作示意圖如下, KRI離子源覆蓋面
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使用專業測膜記號筆, 可以明顯看出加裝 KRI 離子源前後有很大的不同
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