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渦輪分子泵應用於 PVD 鍍膜設備

PVD 即物理氣相沉積, 是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術, 在真空條件下, 利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化, 在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基材上. 它具有沉積速度快和表面清潔的特點, 特別具有膜層附著力強, 繞性好, 可鍍材料廣泛等優點. PVD鍍膜技術廣泛應用於各類產品加工製造.

 

PVD 鍍膜設備需要清潔的高真空

由於目前對真空鍍膜設備的清潔度, 鍍膜層的品質, 所用材料等要求的不斷提高, 傳統的以油擴散泵為主的真空系統因油蒸汽污染的原因, 已經無法滿足使用要求. 因此, 以分子泵為主的無油真空鍍膜系統已逐漸成為市場的主流. 上海伯東普發 Pfeiffer 分子泵依靠自身過硬技術在全球分子泵領域一直處於主導地位.根據客戶實際需要, 成功和國際,國內知名鍍膜塗層設備製造商長期合作.

 

伯東公司 PVD 鍍膜設備客戶案例一: 某知名真空技術公司汽車活塞環鍍膜機, 硬質塗層

每個系統組態2台渦輪分子泵 HiPace 2300

 

伯東公司 PVD 鍍膜設備客戶案例二: 歐洲 platit 工具鍍膜, 主要使用德國Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 系列

前級泵配備幹式真空泵 Pfeiffer 隔膜泵 MVP 系列

 

伯東公司 PVD 鍍膜設備客戶案例三：某生產夜視鏡（多鹼金屬鍍膜）企業

主要使用 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 400

 

Pfeiffer 渦輪分子泵抽速範圍 10 至 2700 L/S, 轉速最高 90,000 rpm, 極限真空最大 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵執行時間可以達到 100,000 小時! Pfeiffer分子泵提供複合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和幹泵共同使用. 更多分子泵典型應用 >>