渦輪分子泵應用於 OLED 鍍膜機

2022-06-10

涡轮分子泵应用于 OLED 镀膜机

渦輪分子泵應用於 OLED 鍍膜機

伯東公司某專業從事 OLED 設備製造商, 經過伯東推薦該設備真空系統組態 Pfeiffer 分子泵 HiPace 700 , 雙級旋片泵 DUO 35 和美國 HVA 插板閥, 成功替換此設備原先使用的日本低溫泵. 此款 OLED 設備適用於有機半導體照明客戶.

OLED 設備基本技術要求如下:

1. 腔體體積: 約 150 L 左右

2. 極限真空度: 1 x 10-7 mbar

3. 30 分鐘 – 1 小時內達到 5 x 10-5 mbar

4. Gas: Ar, O2

OLED 镀膜机,涡轮分子泵

真空系統組態

	渦輪分子泵 HiPace 700 進氣口: DN 160 CF-F 氮氣抽速: 685 l/s 氮氣壓縮比: > 1X10¹¹ 極限真空: 5X10-10 mbar 半導體 Semi S2 及 IP 54 防護等級
	雙级旋片泵 DUO 35 進氣口: DN 40 ISO-KF 氮氣抽速: 32 m3/h 極限真空: 3 X 10-3
	全量程真空計 PKR 251 进氣口:KF 25 測量範圍: 5E-9至 1000 精度: ±30%
	HVA 氣動插板閥進氣口: DN 160 CF-F 極限真空: 1x10-10 mbar 供電: 24V DC

此類 OLED 鍍膜機, 用加熱使材料蒸發的方法, 在襯底上沉積各種化合物, 混合物單層或多層膜. 主要用於有機半導體材料的物理化學性能研究實驗, 伯東公司 Pfeiffer HiPace 系列分子泵搭配 DuoLine 雙級旋片泵是其理想的選擇!

若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論, 請參考以下聯絡方式：

上海伯東: 葉小姐臺灣伯東: 王小姐

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