渦輪分子泵應用於脈衝鐳射沉積系統 PLD
脈衝鐳射沉積 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一種利用鐳射對物體進行轟擊, 然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上, 得到沉澱或者薄膜的一種手段. PLD 系統由多個真空腔體組成, 整個系統需要超高真空且不能引入任何雜質, 對環境的清潔度要求較高, 必須配備無油幹泵和分子泵抽真空. 由於各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 Pfeiffer HiCube 系列分子泵組. 伯東公司 Pfeiffer 分子泵組因其結構緊湊體積小, 清潔無油（前級泵配備幹泵) , 抽速快, 極限真空度高達 10-11mbar 等優點廣泛應用於此設備.
伯東公司脈衝鐳射沉積系統 PLD 客戶案例：某大學電信系 脈衝鐳射沉積系統
1. 系統功能：主要用於 Mn 氧化物等複雜材料膜。
2. 渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3. 樣品尺寸: 6英寸
4. 基片旋轉, 加熱溫度：750℃
5. 膜生長控制模式: 鍍率 / 厚度 / 時間 控制模式
真空系統配置: 超高真空系統配置
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渦輪分子泵 HiPace 400 |
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渦輪分子泵 HiPace 80 |
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隔膜泵 MVP 040 |
Pfeiffer 渦輪分子泵抽速範圍 10 至 2700 L/S, 轉速最高 90,000 rpm, 極限真空最大 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵執行時間可以達到 100,000 小時! 普發分子泵提供複合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和幹泵共同使用. 更多分子泵典型應用 >>
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