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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 Ir 膜
銥 (Ir) 是一種很好的真空紫外反射材料. 在 50100nm 的波長範圍內, Ir 膜反射率比此波長範圍內常用材料 Au、Pt 都高, 雖比 Os 膜反射率稍低, 但後者時效效應嚴重. 相比之下, 空氣中的時效對 Ir 膜反射率幾乎沒有影響, 考慮綜合性能, Ir 膜在真空紫外波段 50100nm 範圍內最佳.
安徽某大學課題租採用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 , 在石英、K9 玻璃和 Si 基片上濺射沉積不同厚度的 Ir 膜各種不同厚度的 Ir 膜, 研究基片、表面厚度、離子束能量對 Ir 膜反射率的影響.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:
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離子源型號 |
RFICP220 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>800 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
20 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
30 cm |
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直徑 |
41 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
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試驗中, 採用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻緻密、大面積的 Ir 膜, 沉積過程中通過調節參數, 沉積時間等從而得到不同厚度的 Ir 薄膜材料, 滿足各種試驗需求.
KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.
因此, 該研究專案才採用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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