市場訊息
伯東 KRI 無柵霍爾離子源 eH 3000 輔助鍍制高品質光學薄膜
某大型工業薄膜製造商採用伯東 KRI 無柵霍爾離子源 eH 3000 輔助熱蒸發技術鍍制高品質光學薄膜, 以獲得良好的機械性能和光學特性的薄膜, 同時獲得與基體牢固結合和優良性能的高品質薄膜.
其工作系統如下圖:
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:
離子源型號
|
eH3000 |
Cathode/Neutralizer |
HC |
電壓 |
50-250V |
電流 |
20A |
散射角度 |
>45 |
可充氣體 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
氣體流量 |
5-100sccm |
高度 |
6.0“ |
直徑 |
9.7“ |
水冷 |
可選 |
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
該製造商的離子源輔助鍍膜系統由霍爾離子源, 電源及控制系統和品質流量計 3部分組成, 如下圖:
其中霍爾離子源發射離子, 品質流量計向離子源提供氣體並保證氣流穩定, 電源及控制系統向離子源供電並保證放電參數放電電壓及電流穩定.
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 運行結果:
1. 適用工業規模生產
2. 獲得良好的機械性能和光學特性的薄膜
3. 獲得與基體牢固結合和優良性能的高品質薄膜
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 測漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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