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光學真空鍍膜機加裝KRI 離子槍應用報告
光學鍍膜(optics coating),在現代生產被廣泛應用, 玻璃鍍膜、鏡片鍍膜、顯微鏡鏡片鍍膜、裝飾燈罩鍍膜都是必不可少的生產工藝, 但是在真空鍍膜中會出現膜層不均勻, 或是產品膜層脫落等現象。所以針對此類問題, 美國KRI（Kaufman & Robinson, Inc）研發了Ion Source離子源，從而解決了此類技術問題。伯東企業（上海）有限公司為美國KRI在中國地區的指定代理商，並負責其產品的銷售及相關技術支持.
KRI離子槍在光學鍍膜中主要起到了預清潔及輔助鍍膜的作用，如下的實際案例:廈門某光學鍍膜企業，該企業使用日本Shincron真空鍍膜機, 如下圖所示:
加裝KRI 離子源起到預清潔作用，由於膜層表面很光滑，在鍍膜時會產生膜層脫落現象，預清潔就是將膜層表面用大的離子如Ar打擊表面，使得製程物能有效的吸附在表面上。
使用專業測膜記號筆，可以明顯看出加裝KRI Ion source前後有很大的不同，當然在鍍膜中希望的效果肯定是加裝後的。
由於客戶腔體比較大，大約2 m3左右，所以我們使用的型號是EH 4200，功率比較大的KRI離子源。在預清潔後還會開啟進行輔助鍍膜，具體效果需要在顯微鏡下觀測，膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高。
工作示意圖如上，KRI離子槍覆蓋面KRI Ion Source 廣泛應用在Optical coating 、Semiconductor、Display、Data Storage、R&D、Precision coating and etching等領域，更多產品信息請參考伯東公司網站www.hakuto-vacuum.com