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KRI 離子源
伯東企業(上海)有限公司代理美國KRI 離子源, 負責其在中的銷售和維修事宜. KRI (Kaufman & Robinson, Inc) Ion Source (USA)
KRI 離子源功能：
預清潔、優化工件表面，增加膜層附著力，增強多層鍍膜能力，改善膜層聚密度，改善膜層光學特性。
KRI離子源特點：
1、高輸出的離子束電流，能提高鍍膜速率。
2、經優化的離子束輸出能量能減低基板表面受高能離子轟擊而損壞的情況，使產品合格率得以提高。
3、寬廣的離子束射出角度能覆蓋更大的鍍膜面積，用戶能增加每爐基板數目，提高生產效率。
4、堅固及模塊式的結構能降低維修成本及停機時間。
5、經廣泛使用驗證的直電流源令操作更簡便，減少停機時間。
6、緊湊的外型設計，能令用戶更方便地升級現有系統。
7、設有RS232接口與OEM自動化系統連接更便利。
8、無柵式設計無需更換及校準昂貴的柵極，更可減低維修成本。
9、體積細小，安裝容易，備有燈絲陰極和空心陰極兩種形式，適用於不同鍍膜工藝。
KRI離子源應用領域：
KRI End-Hal1系列離子源產品能輸出高電流但能量低的離子束，是表面處理及薄膜電鍍工藝的理想工具。其使用範圍包括：
1、離子束輔助鍍膜 (IBAD)
2、基板材料預清潔及表面處理。
3、超硬碳質鍍膜。
4、增加薄膜附著力和密度，及對溫差和溫度的穩定性。