氦質譜檢漏儀用於 PECVD 鍍膜設備檢漏
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氦質譜檢漏儀用於 PECVD 鍍膜設備檢漏


應用十七、氦質譜檢漏儀用於 PECVD 鍍膜設備檢漏

德國Pfeiffer HLT 560 氦質譜檢漏儀用於PECVD 鍍膜設備檢漏應用實例(福建最大的太陽能晶體矽電池製造公司)

一、鍍膜設備檢漏原因
福建最大的太陽能晶體矽電池製造公司, 專業生產太陽能單晶和多晶電池片. 該公司在生產過程中應用了PECVD沉積 Si3N3減反層, 4-5天設備需要保養一次(清潔MASK, 更換支架等等), 由於是清潔設備內部, 所以存在內部腔體密封性失效的可能. 如果鍍膜設備密封性不好, 鍍出來的產品膜厚會不均勻, 產品四周膜參數會不合格.
如果鍍膜設備保養完成後, 能做一次檢漏, 就可以避免很多不合格產品的產生, 達到節約生產成本的目的. 德國 Pfeiffer的HLT 560 氦質譜檢漏儀具有操作簡單, 反應靈敏的特點, 得到了客戶的青睞.

二、鍍膜設備檢漏操作
示意圖如下:




(1).將氦質譜檢漏儀 HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.
(2).啟動檢漏儀, 檢漏儀開始抽取密閉腔體中的氣體,同時啟動鍍膜設備的泵組.
(3).在鍍膜機內部的真空下降到一定程度的時候,如0.5 mbar以下的時候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標準保養時動到的部位.這時需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當漏率上升或漏率值變化劇烈的時候,及時指出漏點所在位置,並做記號.
(4).所有可疑點都檢測完成後,關閉檢漏儀,停下鍍膜機的泵組並將鍍膜機打開,將檢測出的漏點進行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成後,再按照前敘步驟檢查一遍,直到所有漏點都被清除,檢漏過程完成.

 

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