RPICP 140
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RPICP 140


KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion Source

KRI Ion Source RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源,非常適合於離子束濺射沉積、離子輔助沉積和離子束刻蝕。在離子束濺射工藝中,離子源配有離子光學元件,可以很好的控制離子束去濺射靶材,實現完美的薄膜特性。同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中,最佳的離子光學元件能夠完成發散和聚集離子束的任務。就標準的型號而言,可以在離子能量為 100~1000 eV 範圍內獲得很高的離子密度。

KRI Ion Source 有柵極離子源RFICP 140產品詳細參數

 

 

Model

RFICP 140

Discharge

RF inductive

Filamentless

Yes

RF power

>0.5 kW

Ion optics

OptiBeamTM

Grids

Application specific

Alignment

Self-aligned

Neutralizer

Yes (options)

Power controller

RFICP ion Power Pack

Options

 

Beam Shape

Collimated, convergent, divergent

Water cooled

Yes

 

 

 

 

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