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伯東公司考夫曼霍爾離子源 eH 系列簡介
伯東公司為美國考夫曼公司離子源大中华總代理,KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 系列特點：無柵極離子源,高離子濃度低離子能量,離子源散射角度45度,離子源涵蓋面積廣,可依據客戶實際需要選裝離子源中和器或燈絲,可以通過電腦遠端控制,霍爾離子源主要型號包含：eH 200 eH 400 eH 1000 eH 2000 eH 3000 eHlinear 系列,伯東公司依據客戶實際應用選型離子源並提供完善的售後維修服務.

KRI考夫曼霍爾離子源主要應用

離子輔助鍍(IBAD)

In-Situ Substrate Preclean (PC)

Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

Direct Deposition (DD)

離子刻蝕 (IBE)

光學鍍膜
客戶現場圖片：
1.國內某大學天文學系小尺寸刻蝕設備 選用伯東公司考夫曼霍爾離子源 eH400HC

2.國內某光學公司選用伯東公司考夫曼霍爾離子源 eH5000F 應用於大尺寸之光學鍍膜機

霍爾離子源 eH 系列主要優點:

-            高離子濃度 (High density), 低能量(Low energy)

-            離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)               

-            鍍膜均勻性佳

-            提高鍍膜品質

-            模組化設計, 保養快速方便

-            增加光學膜後折射率 (Optical index)      

-            全自動控制設計, 超做簡易

-            低耗材成本,安裝簡易
 

伯東公司主要經營產品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 幹式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量 (真空計, 真空規管); 氦質譜測漏儀; 質譜分析儀；真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵,Polycold 冷凍機;美國 KRI  Kaufman 考夫曼離子源/離子槍和 inTEST 高低溫循環溫度控制系統。
 

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