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氦質譜測漏儀光刻機測漏
上海伯東客戶日本某生產半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件進行測漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速測漏, 採購伯東 Pfeiffer 可擕式氦質譜測漏儀 ASM 310.

光刻機測漏方法: 採用真空模式測漏, 漏率值設定為 1x10-11pa m3/s.
1. 通過波紋管與光刻機真空系統連接
2. 使用噴槍, 噴掃管路, 腔體焊縫, 接頭等部位, 如果存在超過設定漏率值的狹縫, 測漏儀會時時發出聲光報警, 同時在螢幕上顯示漏率值.

可擕式氦質譜測漏儀 ASM 310 主要技術參數：

對氦氣的最小檢測漏率	真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸槍模式 1E-8 Pa m3/s
檢測模式	真空模式和吸槍模式 測漏方法>>
氦質譜測漏儀無油前級泵抽速	1.7 m3/h
檢測氣體	4He , 3He, H2
回應時間	<1s
對氦氣的抽氣速度	1.1 l/s
氦質譜測漏儀進氣法蘭	DN 25 ISO-KF
進氣口最大壓力	15 hPa
通訊介面	RS-232
工作溫度	10-40 °C
噪音水準	< 45 dB (A)
尺寸	350 X 245 X 141 mm
重量	21 kg (46 lb)

鑒於客戶資訊保密, 若您需要進一步的瞭解光刻機測漏, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                   臺灣伯東: 王小姐
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