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伯東企業（上海）有限公司，專業代理KRI Kaufman / Ion Source 離子源。離子源是使中性原子或分子電離，並從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的不可缺少的部件。
氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，並被引出成束。離子源是一門具有廣泛應用領域的學科，在許多基礎研究領域如原子物理、等離子化學、核物理等研究中，離子源都是十分重要不可缺少的設備。
伯東企業（上海）有限公司代理之考夫曼離子源分Gridless Plasma Source EH 系列和Gridless Ion Source RFICP 系列。
考夫曼離子源Gridless Plasma Source EH 系列被廣泛應用於：
◆ 熱蒸發和電子束蒸發工藝中的離子束輔助沉積
◆ 濺射和蒸發工藝中的基板預清洗
◆ 表面改性和表面活性
◆ 直接沉積很薄的功能薄膜
◆ 磁控濺射工藝中的離子束輔助沉積
◆ 低能量、無損傷和精確控制的離子束刻蝕
◆ 傾斜靶材離子束濺射沉積
考夫曼離子源Gridless Ion Source RFICP 系列被廣泛應用於：
◆ 離子束輔助, 濺射沉積
◆ 離子束刻蝕, 表面改性
◆ 超薄和硬質塗層的直接沉積
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