歡迎來到 Hakuto 伯東國際通商

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體感測器 WO3 薄膜
 

某感測器製造商為了製備出具有高結晶度、大比表面積、排列規則的納米結構 WO₃ 薄膜, 經過對比選擇, 採用  KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助磁控濺射沉積設備鍍制 WO₃ 薄膜.

 

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

射頻離子源型號	RFICP380
Discharge 陽極	射頻 RFICP
離子束流	>1500 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	39 cm
直徑	59 cm
中和器	LFN 2000

 

 

氣體感測器可以將被檢測氣體的種類、濃度等資訊轉變為可測信號, 並將電腦與被檢測到的信號連介面相連接, 構成自動的監控、檢測和報警系統. 氧化鎢薄膜可以吸附各種氣體, 從而導致薄膜的電阻或光學參數的變化, 常常應用於氣體感測器領域.

 

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

 

若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權所有,  翻拷必究!