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KRI  聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜

 

某國內 3D玻璃製造商採用伯東KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜, 以獲取高品質 3D玻璃膜.

 

其磁控濺射鍍膜工藝流程如下圖:

 

磁控濺射鍍膜原理:

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞, 電離出大量的氬離子和電子, 電子飛向基片. 氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材, 濺射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.

 

伯東 KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

離子源型號

RFICP 220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

 

運行結果:

使用伯東 KRI  聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜, 保證鍍膜的品質, 所生產出的陶瓷手機蓋板鍍膜無論是環境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優於目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源,提高生產率.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵測漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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