KRi 離子源
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
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霍爾離子源 射頻離子源 考夫曼離子源 自動控制器
霍爾離子源 eH 2000
eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH 2000 |
50-250 V |
10A |
5.7” |
> 45°散射 |
霍爾離子源 eH 3000
適合大型真空系統, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH 3000 |
50-250 V |
20A |
9.7” |
> 45°散射 |
線性霍爾離子源 eH Linear
線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用於寬範圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現最佳的均勻性和離子流
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH Linear |
50-300 V |
NA |
NA |
> 45°散射 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 10
適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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KDC 10 |
100-1200 V |
>10 mA |
1 cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 40
小型低成本直流柵極離子源
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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KDC 40 |
100-1200 V |
>100 mA |
4cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 75
緊湊柵極離子源
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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KDC 40 |
100-1200 V |
>250 mA |
7.5cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 100
廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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KDC 100 |
100-1200 V |
>400 mA |
12cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 160
考夫曼 KDC 系列最大, 離子能量最強的柵極離子源, 適用於已知的所有離子源應用
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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KDC 160 |
100-1200 V |
>650 mA |
16cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
e-Mission Filament
KRI Ion Source e-Mission Filament
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Model |
HFx |
SHC 1000 |
DSHC 1000 |
|---|---|---|---|
|
Cathode |
Yes |
Yes |
Yes |
|
Neutralizer |
Yes |
Yes |
Yes |
|
Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
|
Regulation |
Emission |
Emission |
Emission |
e-Mission Hollow Cathodes
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Model |
HFx |
SHC 1000 |
DSHC 1000 |
|---|---|---|---|
|
Cathode |
Yes |
Yes |
Yes |
|
Neutralizer |
Yes |
Yes |
Yes |
|
Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
|
Regulation |
Emission |
Emission |
Emission |
E-mail contact
+886-2-8772-8910